Yanwei Huang
2015-07-07


 

 

E-mail: yanwei.huang@hpstar.ac.cn黄延伟大头照蓝正.jpg

              yanweihuang@gmail.com

 

 

Education

 

2007-2010   Ph.D  Department of Materials Science, Fudan University, Shanghai, China

2000- 2007   M.Sc & B.Sc  Physical Science & Technology College, Zhengzhou University, 

                         Zhengzhou, Henan province, China

 

 

Research interests

 

High pressure effect on properties of low-dimensional MoS2 or graphene-related materials

The elemental phase study at ultrahigh static pressure

In-situ studies of structural, electronic and optical properties of nanosized metal oxide or doped metal

oxide materials at high pressure

 

 

Publications:

 

1. Yanwei Huang, Qun Zhang, Junhua Xi, Zhenguo JiTransparent conductive p-type lithium-doped nickel oxide thin films deposited by pulsed plasma deposition. Applied Surface Science, 2012, 258: 7435-7439.

2. Zhonghui Cui, Yanwei Huang, Xiangxin Guo “Electrochemical Properties SnO2 Thin-Film Anodes Improved by Introduction of Cu Intermediate and LiF Coating Layers, Electrochimica Acta,2012,60:7-12.

3.Yanwei Huang, Qun Zhang, Guifeng Li, Jiahan Feng, Investigation on structural, electrical and optical properties of 

tungsten-doped tin oxide thin films Thin Solid Films, 2010, 518: 1892-1896.

4.Yanwei Huang,Dezeng Li,Jiahan Feng, et al. “Transparent conductive tungsten-doped tin oxide thin films synthesized by sol-gel technique on quartz substrates” Journal of Sol-gel Science and Technology. 2010, 54: 276-281.

5. G.F. Li, J. Zhou, Y.W. Huang, M. Yang, J.H. Feng, Q. ZhangIndium zinc oxide semiconductor thin films deposited 

by dc magnetron sputtering at room temperature. Vacuum, 2010, 85: 22-25.

6. Yanwei Huang, Qun Zhang, Guifeng Li, Ming Yang, “Tungsten-doped tin oxide thin films prepared by pulsed plasma deposition” Materials Characterization, 2009, 60: 415-419.

7.Yanwei Huang, Qun Zhang and Guifeng Li, “Transparent conductive tungsten-doped tin oxide polycrystalline films prepared on quartz substrates” Semicond. Sci. Technol. 2009, 24: 015003.


 


 



Yanwei Huang
2015-07-07


 

 

E-mail: yanwei.huang@hpstar.ac.cn黄延伟大头照蓝正.jpg

              yanweihuang@gmail.com

 

 

Education

 

2007-2010   Ph.D  Department of Materials Science, Fudan University, Shanghai, China

2000- 2007   M.Sc & B.Sc  Physical Science & Technology College, Zhengzhou University, 

                         Zhengzhou, Henan province, China

 

 

Research interests

 

High pressure effect on properties of low-dimensional MoS2 or graphene-related materials

The elemental phase study at ultrahigh static pressure

In-situ studies of structural, electronic and optical properties of nanosized metal oxide or doped metal

oxide materials at high pressure

 

 

Publications:

 

1. Yanwei Huang, Qun Zhang, Junhua Xi, Zhenguo JiTransparent conductive p-type lithium-doped nickel oxide thin films deposited by pulsed plasma deposition. Applied Surface Science, 2012, 258: 7435-7439.

2. Zhonghui Cui, Yanwei Huang, Xiangxin Guo “Electrochemical Properties SnO2 Thin-Film Anodes Improved by Introduction of Cu Intermediate and LiF Coating Layers, Electrochimica Acta,2012,60:7-12.

3.Yanwei Huang, Qun Zhang, Guifeng Li, Jiahan Feng, Investigation on structural, electrical and optical properties of 

tungsten-doped tin oxide thin films Thin Solid Films, 2010, 518: 1892-1896.

4.Yanwei Huang,Dezeng Li,Jiahan Feng, et al. “Transparent conductive tungsten-doped tin oxide thin films synthesized by sol-gel technique on quartz substrates” Journal of Sol-gel Science and Technology. 2010, 54: 276-281.

5. G.F. Li, J. Zhou, Y.W. Huang, M. Yang, J.H. Feng, Q. ZhangIndium zinc oxide semiconductor thin films deposited 

by dc magnetron sputtering at room temperature. Vacuum, 2010, 85: 22-25.

6. Yanwei Huang, Qun Zhang, Guifeng Li, Ming Yang, “Tungsten-doped tin oxide thin films prepared by pulsed plasma deposition” Materials Characterization, 2009, 60: 415-419.

7.Yanwei Huang, Qun Zhang and Guifeng Li, “Transparent conductive tungsten-doped tin oxide polycrystalline films prepared on quartz substrates” Semicond. Sci. Technol. 2009, 24: 015003.